Uniform plasma processing is essential for next-generation semiconductor manufacturing. Therefore, understanding and controlling plasma fluctuations is critical. To address this challenge, our laboratory has developed tomography systems that can measure the cross-sectional structure of plasmas. Our goal is to apply this technology to process-plasma diagnostics.

次世代の半導体製造では、均一なプラズマを用いた製造プロセスが不可欠であり、プラズマの揺らぎの理解と制御が重要な課題となっています。この課題に対し、所属研究室ではプラズマの断面を計測できるトモグラフィシステムを開発し、プロセスプラズマ計測への応用を目指しています。